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平面激光干涉儀

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平面激光干涉儀

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項目介紹

平面激光干涉儀主要用于光學(xué)玻璃光學(xué)非均勻性的精密測量，光學(xué)均勻性指同塊玻璃中各點折射率相對于玻璃平均折射率的最大正、負偏差，用斐索平面干涉法進行測量。

樣品要求

1.樣品玻璃內(nèi)應(yīng)無肉眼可見的條紋、氣泡等夾雜物;

2.樣品尺寸根據(jù)玻璃產(chǎn)品大小而定，樣品應(yīng)有2個形狀規(guī)則的通光面;

3.使用貼置板時，樣品兩通光面精磨，平行度不大于1′，平面度不大于0.03mm,表面粗糙度Ra=1.6;

4.不使用貼置板時，樣品兩通光面拋光，平行度不大于1′，面形N=0.07，△N=0.05，表面粗糙度Ra=0.012;

5.具體參照標準為：GB T 7962.2-2010 無色光學(xué)玻璃測試方法 第2部分-光學(xué)均勻性。

項目案例
常見問題
1、什么是斐索平面干涉法？

答：標準平面與待檢面之間形成一定的傾角，改變其間空氣楔的方位和大小，則兩相干光速的光程差沿空氣楔主截面方向逐漸變化，從而形成等厚干涉條紋。此種干涉稱為斐索平面干涉。

2、斐索平面干涉法測量光學(xué)均勻性的光學(xué)原理圖？