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     原位XRD

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    平均周期11天  |  總體滿意度99.6%

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     原位XPS（In-Situ XPS）

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     原位微分電化學(xué)質(zhì)譜儀（DEMS）

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     原位電化學(xué)拉曼

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    已預(yù)約2434次

    平均周期15天  |  總體滿意度99%

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     原位電化學(xué)紅外

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     原位電化學(xué)電子自旋共振波譜儀（ESR/EPR）

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    平均周期9天  |  總體滿意度99%

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     原位拉曼

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    已預(yù)約559次

    平均周期5天  |  總體滿意度99%

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     原位透射電鏡（in-situ TEM）

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     原位電化學(xué)XRD

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    已預(yù)約125次

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     原位掃描電子顯微鏡（in-situ-SEM）

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     原位AFM

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     原位斷層光譜

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    平均周期10天  |  總體滿意度99%

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     電芯原位膨脹測試儀

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     等溫量熱儀

    等溫量熱儀

    已預(yù)約6次

    平均周期15天  |  總體滿意度99%

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    常見問題

    Q&A

    Q：到底是發(fā)論文還是申請專利？
    A：論文和專利都是技術(shù)的載體，論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確，發(fā)明專利會經(jīng)過新穎性或創(chuàng)造性的審查，授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù)，自己在先公開的論文會導(dǎo)致在后申請的專利失去新穎性或創(chuàng)造性，對于同一方案務(wù)必先申請專利再發(fā)表論文。
    Q：專利申請為什么要趁早？
    A：1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮，慢一步就會導(dǎo)致他人先公開自己的創(chuàng)意而無法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評獎、職稱考核、高企認(rèn)定等過程中添加砝碼，競爭激烈，提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
    Q：哪些不能申請專利？
    A：1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識作用的設(shè)計(jì)。
    Q：發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別？
    A：1.保護(hù)客體不同，發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，實(shí)用新型專利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同，發(fā)明專利需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，審查時間更長，實(shí)用新型不需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查，創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低，但實(shí)用價(jià)值大。3.保護(hù)期限不同，發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年，實(shí)用新型專利權(quán)的期限為十年，外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的期限為十五年，均自申請日起計(jì)算。
    Q：什么是技術(shù)交底書？
    A：技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ)，應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問題是什么，發(fā)明人提出了什么樣的解決方案，達(dá)到了何種效果，以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么，應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容，充分描述技術(shù)細(xì)節(jié)，提供有力的證明材料，如此才能撰寫更高質(zhì)量的專利。
    Q：如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)？
    A：1.優(yōu)先審查，涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域，可以申請優(yōu)先審查，最快可在6-8個月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過保護(hù)中心的預(yù)審加快審查，進(jìn)入快速審查通道，可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時間。
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